目前，啞光黑色聚酰（xiān）亞胺薄（báo）膜已經商業化，國內（nèi）外生產廠家有美國（guó）杜（dù）邦、韓國SKC、中國台灣達邁、桂（guì）林電科院、深圳瑞華泰（tài）、無錫高拓和寧波金山等，國外均采用雙（shuāng）向拉伸技術製（zhì）備啞（yǎ）光黑色聚酰亞胺薄膜，已能穩定生產光澤度為25 GU的高性能啞光黑色聚酰亞（yà）胺薄膜，產品質量較好（hǎo），長期（qī）占領高端市場；國內有（yǒu）桂林電科院、深圳（zhèn）瑞（ruì）華泰和無錫高拓（tuò）等具備采用雙向拉伸工藝製備啞光黑色聚酰亞胺薄膜的能力，但製得的啞光黑色聚酰亞胺薄膜光澤度仍在40 GU以上，還未（wèi）掌握光澤度為25GU的低（dī）啞光黑色聚酰亞胺薄膜生產製備技術。而且國內啞光黑色聚（jù）酰亞胺（àn）薄膜的大多廠家仍沿用流涎法製備技術，製得的薄膜（mó）產品力學性能偏低，縱（zòng）橫（héng）向薄膜性能相差較大，導致薄膜尺寸（cùn）穩定性差，而且無法（fǎ）製得厚度低於12μm的薄膜。國內啞光黑色聚酰亞胺薄膜與國外同類產品在力學（xué）性能（néng）、電性能、光澤度和尺寸穩定性還（hái）存在較大差距。

  隨著電子（zǐ）產品向短（duǎn）、小、輕、薄（báo）方向發展，所需的啞光黑色聚酰（xiān）亞胺薄膜也越來越薄，性能要求越來越高，雙向拉伸技術將成（chéng）為今後薄膜製（zhì）造的主流技術，啞光黑色聚（jù）酰亞胺薄膜在柔性電路板、剛性電路板、液（yè）晶顯示器（qì），發光二極（jí）管（guǎn）、光伏電池，液晶顯示器、可攜式通訊裝置、電子書、平板（bǎn）計算機等電子（zǐ）產品中的應用（yòng）也將越來越成熟，需求量（liàng）也（yě）將越來越大。國內聚酰（xiān）亞胺薄膜製（zhì）造商在（zài）啞光黑色（sè）聚酰亞胺薄膜的製造方麵，還需攻破多項關鍵技術，提升啞光黑色聚酰亞胺薄膜的產品性（xìng）能（néng），這些關（guān）鍵技術主要為：①研（yán）製碳黑分散技術，阻斷碳黑鏈式（shì）導（dǎo）電結構的形成，保證薄膜的絕緣性；②開發消光粉的防沉澱、防團聚技術，在保證力學性能的（de）前提下，繼續（xù）提高消光粉添加量和增大其粒徑，致力於開發光澤度更低的黑色聚酰亞胺薄膜產品；③研究基體樹脂（zhī）配方（fāng）與填料的匹配設計，製備力學性能優異、熱膨脹係（xì）數低、熱收縮率低的啞光黑色聚酰亞胺薄膜；④注重碳黑漿料、消光粉漿料與聚酰胺酸樹脂（zhī）的複合技術，研究聚酰胺酸鏈段長度、黏度和（hé）無機（jī）填料加料順序對混合均勻度的影響，製備性能均（jun1）一穩定的啞光黑色（sè）聚酰亞胺薄膜。