由於以（yǐ）Kapton和F46 柔性材料為基底的二次表麵鏡在衛星（xīng）上起著重要的熱控作用, 所以對它們直接暴露在空間那一邊（biān）的高絕緣（yuán）表麵的改性（xìng）, 不僅要滿足（zú）防靜（jìng）電積累的要（yào）求,還必須兼顧它們的光學性質, 不能因表（biǎo）麵（miàn）改性而降低（dī）它們（men）的熱控效果. 因而對所製備的導電膜除了測其膜電阻外, 還進行了光透過率和發（fā）射率的測量. 膜電阻測量按（àn）部標QJ-2306“ 空間環境下材料表麵電阻測試方法”規定的內容進行. 膜的透過（guò）率用（yòng）P-E 紫外可見紅外分光光度計測量, 發射率用美國A E 發射計測（cè）量。

  考慮（lǜ）到Kapton等柔性（xìng）二（èr）次表麵鏡在製備有（yǒu）抗靜電（diàn）膜後, 在貯存、運輸、衛星總（zǒng）裝以及空間（jiān）應用各階（jiē）段都可能造成對導電膜性能的影響, 因此檢驗所製（zhì）備的導（dǎo）電膜性能的穩定（dìng）性也是極為（wéi）必要的. 美國GE 公司和sheldhal公司在這方麵進行了相當細致的（de）工作，還製定了試驗規範. 參照他們的（de）工作, 甚至部分試驗還在更（gèng）為苛刻的條件下完（wán）成了對新（xīn）研（yán）製的導電膜的（de）穩定性評估試驗。

  通過對三種導電膜係的（de）各（gè）種評價試驗, 充分表明了（le）利用平麵磁控濺射方法在優選的工藝（yì）參（cān）數條件下, 可以製備出性能優良的抗靜電導電（diàn）膜. 而且電學性質（zhì）和光學性（xìng）質具佳.特別TO膜不須經高溫後處理即可達到（dào）與ITO、IO膜（mó）相同的性能, 這一工藝研究結果對降低成本帶來（lái）了很大好處。