含（hán）氟聚酰亞胺特別是含三氟甲基聚酰亞胺因（yīn）具有極好的溶解性（xìng）、低介電常數、高度光學透明性、較好的耐熱性和（hé）力學性能等特點引起研究者（zhě）越來越多的研究興趣。基團的引（yǐn）入增加了聚（jù）酰亞胺主鏈（liàn）的空間（jiān）位（wèi）阻，降低了分子鏈（liàn）間的相互作用，增強了分子鏈柔（róu）韌性；其次，基（jī）團的引入可以破壞聚酰亞（yà）胺的（de）結構（gòu）規整性，降低分子結晶性，使其具有良好的溶解性能，改善了傳統聚酰亞胺材料難溶（róng）、難（nán）以成型加工的缺點。 基團固有的憎水性能以及C-F鍵之間較低的摩爾極化率能進一步降低（dī）聚（jù）酰亞胺（àn）材料的介電常數；此外，F原子的半徑小、電負性大，使之具（jù）有較（jiào）強的（de）吸電子作用以及電（diàn）子誘導作用，有效（xiào）阻止了聚合物分子鏈（liàn）內電荷轉移絡合物的形成，從而（ér）提高其（qí）光學性能。含三氟（fú）甲基聚酰亞（yà）胺的一係列優異性能使（shǐ）其在低介電性材料、光學裝置、波導材（cái）料、氣體分離膜和溶劑分離（lí）等領（lǐng）域具有廣泛的應用。

  不同結構三氟甲基基團對聚酰（xiān）亞胺性能（néng）F3C CF，的影響側重點不一致，3F基團能（néng）夠增加聚合物的自由體積，因此（cǐ）能增加其對氣體的吸收並提高其介電性能；6F基團在（zài）不改變聚合物熱穩（wěn）定性的同時可以增強聚合物（wù）溶解性。隨著F原子的增加，含9F基團聚合物的光學（xué）性能得到很大改善。含三氟甲基單體（tǐ）的合成比較困（kùn）難，是製備（bèi）含三（sān）氟甲基聚酰亞胺的關鍵步驟。含三氟甲基二酐（gān）單體的製備由於合成過程的複雜性和可（kě）用原料種類少限製了其發展。目前合成二酐單體的一（yī）般過程是由含一（yī）CF。基團原料開始（shǐ），經過偶聯、氧化、水解及酸酐化等一係（xì）列反應得到產（chǎn）物。

  合成二胺單體常用的方法是“兩步法”：首先，通過含三氟（fú）甲基酚與鹵代硝基苯或含三氟甲基鹵代硝基苯（běn）與二酚的反應製備二硝基化合物；然後利用二（èr）硝基化合物還原生成二胺化合物。隨著新型含三氟甲基聚酰亞胺（àn）單體的不斷更新，合成方法也在不斷改進。最近，Wang Chenyi等，一甲基苯胺和（hé）4一三氟甲基苯甲醛為反（fǎn）應原料，HC1為催化劑，反應溫度調節到150℃ ，在氮氣保護下一（yī）步合成 ， 二(4一氨基一3一（yī）甲基苯基（jī）)一（yī）4一三氟甲基甲（jiǎ）苯二胺單體（tǐ），基於此單體合成聚酰亞胺材料具有（yǒu）極好的溶解性、可（kě）加工性和光學透明性。